光学邻近效应,光学邻近效应制备工艺技术合集图文全套

请记住资料编号：GY10001-66010 资料价格:198元

1、光学邻近效应修正方法及相应的掩膜图形形成方法

[简介]：本套资料提供一种光学邻近效应修正方法，包括模拟预期光刻图形，获得所模拟形成的光刻图形与预期光刻图形的差，依据所述差调整所述预期光刻图形，依据所述差对预期光刻图形进行调整包括根据模拟形成的光刻图形与预期光刻图形...

2、光学邻近效应修正方法及相应的掩膜图形形成方法

[简介]：本套资料提供一种基于Abbe阿贝矢量成像模型的光学邻近效应校正的优化方法，本方法设置掩膜中开口部分以及阻光部分的透射率，设置变量矩阵Ω，将目标函数D构造为目标图形与当前掩膜对应的光刻胶中成像之间的欧拉距离的平方...

3、基于Abbe矢量成像模型的光学邻近效应校正的优化方法

[简介]：本套资料涉及65纳米集成电路的制造工艺和版图设计技术领域，主要内容为一种基于Cell的层次化光学邻近效应校正OPC方法。该方法通过将层次化设计的概念引入到全芯片OPC修正过程中，将所有标准单元图形规则化，并在标准单元库构建...

4、一种基于Cell的层次化光学邻近效应校正方法

[简介]：本套资料涉及一种基于像素的光学邻近效应校正的优化方法，通过将目标图形作为初始掩膜图形M0，并设定矩形总数上限为L；计算目标函数的梯度寻找绝对值最大的可翻转像素点并进行翻转；当翻转后计算出的成像误差项F比翻转前计算...

5、一种基于像素的光学邻近效应校正的优化方法

[简介]：本套资料实施例主要内容为一种光学邻近效应矫正OPC数据的查询方法，包括：接收用户输入的查询指令，该指令携带本次查询字段；参考预先设定的查询字段与存储地址之间的对应关系，查询与所述预设字段对应的存储地址，确定为目标存储...

6、光学邻近效应矫正数据的查询方法及系统

[简介]：本套资料提供一种光学邻近效应修正方法，包括以下步骤：设计用于建立光学邻近效应修正模型的测试图形，包括建模图形和验模图形，测试图形包括非对称分布的光刻图形；将测试图形制成测试光刻掩模板，使用测试光刻掩模板在晶片上...

7、一种光学邻近效应修正方法

[简介]：本套资料主要内容为一种用于光刻过程窗口最大化光学邻近效应校正的方法和系统。进一步，本套资料涉及一种有效的提高用于将具有多个特征的目标图案成像的光刻过程的成像性能的OPC方法。该方法包括步骤：确定用于形成模拟图像的函数...

8、用于光刻过程窗口最大化光学邻近效应校正的方法和系统

[简介]：本套资料主要内容为一种用于光学邻近效应校正的多变量求解器以及一种求解方法，其中本套资料的方法遵循在掩模布局中的边缘片段的统一运动如何改变在所述布局中的控制点上的抗蚀剂图像值，以及如何同时确定针对在所述布局中的每个...

9、用于光学邻近效应校正的多变量求解器

10、用于光学邻近效应校正的多变量求解器

[简介]：一种修正光学邻近效应的方法可包含下列步骤：制造具有这些测试图案的测试光罩；使用该测试光罩，使这些图案投射在晶圆上；测量形成在晶圆上的这些图案的线宽；以及使用该所测量的线宽来执行模型校正并编写修正秘诀。可将晶圆...

11、修正光学邻近效应的方法

[简介]：本套资料主要内容为一种把光罩偏差放大系数引入光学邻近效应建模的方法，在光学邻近效应建立工艺模型的基本工艺线宽数据的收集过程中，把工艺模型所需的经验线宽数据的权重值与图形的光罩偏差放大系数相关，可以过滤一些工艺和...

12、把光罩偏差放大系数引入光学邻近效应建模的方法

[简介]：本套资料公开的层次化光学邻近效应校正方法，包括预校正单元库的准备，掩模图形偏移量的初始化和利用动态调整算法进行快速运算的步骤，提出了一种在光学邻近效应校正过程中充分利用版图层次化结构的方法，使在深亚微米条件下...

13、一种层次化的光学邻近效应校正方法

[简介]：一种提供用以形成一个半导体组件的方法，包含提供一个基底具有一层光阻层形成于其上，再在至少一部分的光阻层上提供一个光罩，此光罩具有一个主图案以及一个辅助图案。这个方法更包含转移主图案到光阻层，以及在基底上形成...

14、使用反光学邻近效应形成光阻图案的方法

[简介]：本套资料提出一种接触孔洞的光学邻近效应的修正方法，首先固定在制程中预定的光阻和光源等因素下，建立光掩模关键尺寸mCD与光阻关键尺寸pCD在各间距d下的对应关系。并根据此对应关系，在光阻关键尺寸和间距的每一组合...

15、接触孔洞光学邻近效应修正和掩模及半导体装置制造方法

[简介]：本套资料揭示一种光学邻近效应修正的方法。本方法至少包括：提供透明平板，形成不透明薄膜在透明平板上，其中不透明薄膜的图案为多边形；最后，增加至少一凸角于多边形的线端，藉由光学邻近效应修正，其中线端不包括非90度角。

16、光学邻近效应修正的方法

[简介]：本套资料是提供一种光罩图案区块的方式，且不需使用外加的饰线以修正具有内角多边形的光罩特征图案，使得具有至少一个内角的特征图案可以得到有效的光学邻近效应修正且不会有任何外加的数据点增加。因此，可以取代传统的利用...

17、利用光学邻近效应修正多边形光罩特征图案的方法

[简介]：本套资料涉及一种校正光学邻近效应方法，它利用将一母光罩依其疏密程度的不同而切割成多个子光罩，再针对每一种疏密程度下子光罩所能达到的理想临界尺寸，而给予如光圈孔径、曝光能量等条件，再依序透过等子光罩对光阻进行曝...

18、降低光学邻近效应的方法

[简介]：一种修正光学邻近效应的方法，利用加入边角衬线或锤头状图案来有效避免主要图案的尾端收缩，可修正该主要图案使其曝光后的尾端长度逼近原始设计，而尾端宽度略呈扩大。因为本套资料可修正该主要图案使其曝光后的尾端长度逼近...

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